同時，ITO膜印銀漿無附著力由于射流低溫等離子體為電中性，等離子體清洗機在加工過程中不會損傷保護膜、ITO膜和偏振濾光片。
8.半導體工業(yè)a.晶圓及晶圓制造：光致抗蝕劑去除；b.微機電系統(tǒng)(MEMS):SU-8膠水的去除；c.芯片封裝：鉛墊清洗，ITO膜印銀漿無附著力倒裝底充，提高封膠粘接效果；D.失效分析：拆裝；e.電連接器、航空插座等。9.等離子體清洗機在太陽電池上的應用太陽能電池的蝕刻，太陽能電池封裝的預處理。10.平板顯示器a.清潔活化ITO面板；B.去除光刻膠；c.清理國家場地(COG)。。
等離子清潔器相變存儲器的 GST 蝕刻工藝：GST 是當今廣泛使用的相變材料，ITO膜印銀漿無附著力其等離子清潔器蝕刻工藝是相變存儲器所獨有的。 1、等離子清洗機GST蝕刻氣體屏蔽GST是相變存儲器的核心材料，其體積直接影響器件的電性能，因此GST薄膜的完整性（INTEGRITY）非常重要。
研究表明，ito膜層與銀漿附著力使用氧等離子體清潔裝置對 ITO 進行等離子體處理可顯著提高空穴注入和器件穩(wěn)定性。用不同輸出的等離子體處理ITO可以顯著提高ITO的功函數并優(yōu)化器件性能。有機電致發(fā)光器件（OLED）由于具有自發(fā)光、高亮度、寬視角等諸多優(yōu)點，在顯示和照明領域受到青睞，具有巨大的應用潛力。
ITO膜印銀漿無附著力
